CLIV

Восстанавливающая маска-лифтинг с коллагеном CLIV Collagen Resurgence Mask (336688) защищает от преждевременного старения. Маска поддерживает упругость кожи, насыщает кожу влагой, выравнивает тон.

Применение: положите тканевую маску на очищенное лицо и оставьте на 10-20 минут. Снимите маску и вмассируйте остатки маски в кожу.

Состав: Aqua, Citrus Limon Fruit Water, Butylene Glycol, Ethylhexyl Methoxycinnamate, Zinc Oxide, Titanium Dioxide, Cetyl Ethylhexanoate, Cetyl Peg/Ppg-10/1 Dimethicone, Caprylic/Capric Triglyceride, 4-Methylbenzylidene Camphor, Hydrogenated Polyisobutene, Butyl Methoxydibenzoylmethane, Cyclopentasiloxane, Niacinamide, Talc, Sorbitan Sesquioleate, Benzophenone-3, Sodium Chloride, Ci 77492, Calcium Stearate, Sorbitan Isostearate, Polyethylene, Disteardimonium Hectorite, Phenoxyethanol, Triethoxycaprylylsilane, Ci 77491, Methylparaben, Ci 77499, Propylparaben, Tocopheryl Acetate, Disodium Edta, Ethyl Hexanediol, Adenosine, Glyceryl Caprylate, Biotin, Bisabolol, Panthenol, Sodium Ascorbyl Phosphate, Aloe Barbadensis Leaf Extract, Glyceryl Linoleate, Macadamia Ternifolia Seed Oil, Glyceryl Linolenate, Hydrogenated Phosphatidylcholine, Retinol, Glycerin, Alcohol, Propylene Glycol, Solanum Lycopersicum Callus Culture Extract, Brassica Campestris Sterols, Peg-5 Rapeseed Sterol, Glycyrrhiza Glabra Root Extract, Ceteth-3, Ceteth-5, Cholesterol, Bht, Potassium Cetyl Phosphate, 1,2-Hexanediol, Caprylyl Glycol, Citric Acid, Potassium Sorbate, Pulsatilla Koreana Extract, Tocopherol, Usnea Barbata Extract, Zanthoxylum Piperitum Fruit Extract, Sodium Benzoate, Xanthan Gum, Lecithin, Sodium Hyaluronate.

CLIV – бренд корейской косметики, создающий продукты для ухода, защиты и восстановления кожи лица. Бренд учитывает особенности различных типов кожи и разрабатывает эффективные растительные формулы для своих кремов, концентратов, масок и сывороток.

CLIV уделяет много внимания групповым исследованиям и тестам на раздражение кожи, а также использует только проверенное сырье для создания своей продукции.